产品详情

Agar 离子溅射仪是日常镀膜应用的理想选择。Agar 离子溅射仪能够提供非常精细的溅射效果，并且经济实用操作简便，抽真空速度快对样品无损伤。Agar 离子溅射仪可以提供单独的真空泵或者真空连接装置供额外的一个真空泵使用。 因此该真空泵可以和额外的蒸碳镀膜仪一起使用。另外，双真空泵系统也可以使两台 Agar 公司的镀膜仪共用一个真空泵。

溅射仪腔体

120X120mm 的大腔体可以满足大多数可选择的“O”圈以及多种样品夹的使用。而且 可以选择膜厚监测仪作为选项。标准的样品腔可同时放置 6 个样品。样品座的高度调节范围为 25-80mm。12 个样品的 大样品座作为备选件，该配件在膜厚监测仪中是标准配置。

溅射头

高位的冷磁溅射头包含一个 57mm 的金靶。其他靶材也可方便的切换，比如 Pt，Pd等。当样品室打开的时候真空保护装置会自动启动。

控制系统—自动

整个的操作过程包含抽真空、清洗、时间设置等都是在微机控制下自动完成，操作者 只需要设置好溅射的电流以及镀膜时间即可。手动模式一般用于设定操作所用的参数。

真空泵系统

集成式的真空系统设计为安装在镀膜系统的背部，并且固定在一个减震平台上。 真空泵以 KF16 用一节短的不锈钢与主机连接。只需35秒即可达到 0.1mb 的真空度。 选装泵可作为备选项方便操作者选择额外的泵系统。

技术规格

腔体尺寸：                      直径120mm，高120mm   

SE 的腔体尺寸：              直径150mm，高165mm

靶材：                            金靶  Au/Pd 或 Pt 可选

样品座：                         12 SEM 样品座

溅射电源：                      基于微处理器的铂靶（57mm x 0.1mm）

                                      安全联锁金/钯靶（57mm x 0.1mm）

                                      最大电流80mA

溅射头：                         低压平面磁控管型快变靶绕暗空间屏蔽

模拟测量：                     真空-0.001mb

                                      电流0-50mA

尺寸：                            420mm 宽 x 295mm 高

重量：                            10Kgs

膜厚控制：                      使用终止膜厚度 

                                      膜厚控制监视器（可选）

控制方法：                      气体吹扫和泄漏功能的自动操作和自动工艺排序

                                     全手动操作

                                     带暂停的数字计时器（0-300秒）

                                     自动排气

泵系统：

旋转泵：                       高速, 2级

速度：                          2.0/2.4 cu.m/hr (50/60Hz)

             0.1mb 是 25/30秒

台式系统：                   真空泵安装在与不锈钢波纹管连接系统兼容的防振台上

尺寸：                          330mm 宽 x 215mm 高

重量 ：                         14Kgs

安装要求

电压：                         100 - 120 or 200 - 240 VAC, 50/60Hz

功率：                         最大175伏安

氩气：                         99.9%纯氩

                                   压力，调节7-8 psi（0.5-0.6 bar）软管连接，6.0 mm（1/4“）

产品外观